PRODUCT INFORMATION
製品情報
高温熱処理炉超高温バルクアニール炉
c.CRYSCOO-HTA
MBE装置RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置
パッシベーション用MBE装置
リフロー炉量産用 真空リフロー炉
インライン型 真空リフロー炉
(ボイドレス/フラックスフリー)
真空装置 In-situ反りモニターRIBER社 真空装置 In-situ反りモニター
EZ-CURVE
真空装置 In-situ反りモニター
エッチング装置イオンミリング装置の事なら伯東へ
イオンビームミリング装置
10IBE ／20IBE-C／20IBE-J
エッチング装置半導体物理解析：配線・絶縁膜の層剥離・除去
Ion Beam Delayering装置
Infinity FA system
中古MOCVD装置Agnitron社 中古再生MOCVD装置
中古再生MOCVD装置
MOCVD装置 (研究開発(R&D)/量産装置)
MOCVD装置Agnitron社 MOCVD装置(有機金属気相成長装置)
Agilisシリーズ
MOCVD装置(研究開発(R&D)/量産)
MOCVD装置 In-situモニターAgnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニタ
AgniTemp
MOCVD装置 In-situ温度モニター
MOCVD装置制御ソフトウエアAgnitron社 MOCVD装置制御ソフトウエア
Imperium®
MOCVD装置制御ソフトウエア
スパッタ成膜(PVD/CVD)AMAT社 Endura®（中古再生/プロセス保証）
Endura® リファブ装置
Endura®5500 / Endura®II
スパッタ成膜(PVD/CVD)TRIBUS SYSTEM 社製 PVD システム
SURPASS P200 ®
マスクレス描画装置高解像度 / 高スループット マスクレス露光装置
Picomaster / Picomaster XF シリーズ
業界最高レベルの解像度/スループット
MBE装置RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置
Compact21シリーズ
研究開発用モデル
MBE装置RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置
MBE412シリーズ
試作～小規模生産用モデル
MBE装置RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置
MBE49シリーズ
量産用モデル
MBE装置RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置
MBE6000
量産用モデル
分光エリプソメーター解析波長が広い(DUV～NIR)分光エリプソ
分光エリプソメーター SENresearch4.0
SENresearch4.0 / SENTECH Instruments GmbH
MBEセル（蒸着源）多種多様な材料に対応した標準型クヌーセンセル
標準型クヌーセンセル
SFシリーズ、DFシリーズ、DPシリーズ、CLシリーズ
MBEセル（蒸着源）ヒ素、リン、腐食性材料用バルブドクラッカーセル
バルブドクラッカーセル
VACシリーズ、KPCシリーズ、VCORシリーズ
MBEセル（蒸着源）大容量・高安定性III族エフュージョンセル
インサートセル
ABIシリーズ
MBEセル（蒸着源）窒化物向け高耐性エフュージョンセル
マスターソース
MSシリーズ
MBEセル（蒸着源）特殊用途に対応したMBEセル
特殊用途MBEセル
HT,MHTシリーズ、HATシリーズ、カーボンセルシリーズ
RFプラズマ源(N2,O2,H2)多種多様なRFプラズマ源(プラズマソース)
RFプラズマ源
RFシリーズ、VRFシリーズ、RF-Hシリーズ
ガスインジェクター高温、低温ガスインジェクター(ガスソース)
ガスインジェクター
HTIシリーズ、LTIシリーズ、ガスモジュール
プラズマ装置PVA TePla社 プラズマ処理装置
GIGA シリーズ(後工程)
バックエンドモデル
プラズマ装置PVA TePla社 プラズマ処理装置
GIGA シリーズ(前工程)
ウエハープロセスモデル
リフロー炉R&D対応モデルの真空はんだ付け装置
c.VACUNITE6 c.VACUNITE12
リフロー炉R&D、少量生産対応モデル
c.VACUNITE24
リフロー炉量産対応モデル
c.VACUNITE180 c.VACUNITE300
加速器関連機器マイクロビームライン/ビーム自動集束システム
マイクロビームライン
製品名：MBⅡ- AQUA
加速器関連機器Group3社製 磁場測定器(テスラメーター)
磁場測定テスラメータ
加速器NEC社製ペレトロン加速器
ペレトロン加速器
元素分析装置ASI社 LA-LIBS装置
J200 LA-LIBS装置