EZ-CURVE-真空装置 In-situ反りモニター

RIBER社で開発されたEZ-CURVEはMagnification Inferred Curvature 法（虚像倍率比測定による曲率推定法)にて測定されます。各種真空装置に取付可能であり、応力,反り,曲率,異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。

特徴

• ―In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能
• ー成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。
• ー各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。
• ー従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100Hz)を実現
• ーAlGaAs/GaAsなどの低格子不整合材料系にも対応可能
• ー数mmまでの厚膜ウェハに対応可能
• ー高い安定性とアライメントフリー測定を実現
• ー白色光源の採用、反射率の変化に影響無し、露光時間の調整が不要。
• ーウェーハの平坦性に影響せず、パターニングされたウェーハでも測定可能
• ー他のソフトウェアとデータを共有可能。例) Riber Crystal XEなどのソフトウェアとのデータ共有が可能
• ーリーズナブルな価格

仕様

• ー曲率測定レンジ　0.0008～200,000 Km-1
• ー半径レンジ（Max-Min）1,250,000～0.005m
• ーカタログ、詳細資料は　” 製品資料をダウンロード “ボタンをクリックしダウンロードください。

測定条件

• ー完全に透明なフィルムには使用不可（部分的反射必要）
• ー格子定数差がある事
• ーCF35のフランジを2個(光源、受光)、基板側に向けて同一平面上に配置
• ー測定サンプルはプラテン(測定ウエハ固定ワーク）中心に配置
• ー特殊形状サンプルをプラテン(測定ウエハ固定ワーク)に貼り付けて使用する場合は、応力が少ないIn接着等の使用を推奨(RIBER社でテスト実績有り）

構成品

応用事例

• ―材料組成比算出
• ー多層膜レイヤーの連続曲率(応力)観察→成長パラメータのずれ補正値の推定
• ー各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。
• ー応力緩和状態のリアルタイム観察
• ー歪補正算出
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• 事例1) Al組成計測
• 既知の格子定数値と計測した曲率値(応力値)から、AlGaAsのAl 組成比を算出。

• 事例2) 多層膜レイヤーの連続曲率観察
• 曲率変化量から各レイヤーの成長パラメータのずれ補正値の推定

• 事例3) 応力緩和のリアルタイム観察
• リアルタイムに応力緩和現象を観察。

• 事例4) 歪補正
• プラズマソースバルブ開度の違いによる曲率(応力)変化から歪補正必要有無、補正量を判断。