PRODUCT INFORMATION
製品情報- 高温熱処理炉
超高温バルクアニール炉
c.CRYSCOO-HTA
- MBE装置
RIBER社分子線エピタキシー(MBE)装置
パッシベーション用MBE装置
- リフロー炉
量産用 真空リフロー炉
インライン型 真空リフロー炉
(ボイドレス/フラックスフリー)
- 真空装置 In-situ反りモニター
RIBER社 真空装置 In-situ反りモニター
EZ-CURVE
真空装置 In-situ反りモニター
- エッチング装置
イオンミリング装置の事なら伯東へ
イオンビームミリング装置
10IBE /20IBE-C/20IBE-J
- エッチング装置
半導体物理解析:配線・絶縁膜の層剥離・除去
Ion Beam Delayering装置
Infinity FA system
- 中古MOCVD装置
Agnitron社 中古再生MOCVD装置
中古再生MOCVD装置
MOCVD装置 (研究開発(R&D)/量産装置)
- MOCVD装置
Agnitron社 MOCVD装置(有機金属気相成長装置)
Agilisシリーズ
MOCVD装置(研究開発(R&D)/量産)
- MOCVD装置 In-situモニター
Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニタ
AgniTemp
MOCVD装置 In-situ温度モニター
- MOCVD装置制御ソフトウエア
Agnitron社 MOCVD装置制御ソフトウエア
Imperium®
MOCVD装置制御ソフトウエア
- スパッタ成膜(PVD/CVD)
AMAT社 Endura®(中古再生/プロセス保証)
Endura® リファブ装置
Endura®5500 / Endura®II
- MBE装置
RIBER社分子線エピタキシー(MBE)装置
Compact21シリーズ
研究開発用モデル
- MBE装置
RIBER社分子線エピタキシー(MBE)装置
MBE412シリーズ
試作~小規模生産用モデル
- MBE装置
RIBER社分子線エピタキシー(MBE)装置
MBE49シリーズ
量産用モデル
- MBE装置
RIBER社分子線エピタキシー(MBE)装置
MBE6000
量産用モデル
- 分光エリプソメーター
解析波長が広い(DUV~NIR)分光エリプソ
分光エリプソメーター SENresearch4.0
SENresearch4.0 / SENTECH Instruments GmbH
- MBEセル(蒸着源)
多種多様な材料に対応した標準型クヌーセンセル
標準型クヌーセンセル
SFシリーズ、DFシリーズ、DPシリーズ、CLシリーズ
- MBEセル(蒸着源)
ヒ素、リン、腐食性材料用バルブドクラッカーセル
バルブドクラッカーセル
VACシリーズ、KPCシリーズ、VCORシリーズ
- MBEセル(蒸着源)
大容量・高安定性III族エフュージョンセル
インサートセル
ABIシリーズ
- MBEセル(蒸着源)
窒化物向け高耐性エフュージョンセル
マスターソース
MSシリーズ
- MBEセル(蒸着源)
特殊用途に対応したMBEセル
特殊用途MBEセル
HT,MHTシリーズ、HATシリーズ、カーボンセルシリーズ
- RFプラズマ源(N2,O2,H2)
多種多様なRFプラズマ源(プラズマソース)
RFプラズマ源
RFシリーズ、VRFシリーズ、RF-Hシリーズ
- ガスインジェクター
高温、低温ガスインジェクター(ガスソース)
ガスインジェクター
HTIシリーズ、LTIシリーズ、ガスモジュール
- プラズマ装置
PVA TePla社 プラズマ処理装置
GIGA シリーズ(後工程)
バックエンドモデル
- プラズマ装置
PVA TePla社 プラズマ処理装置
GIGA シリーズ(前工程)
ウエハープロセスモデル
- リフロー炉
R&D対応モデルの真空はんだ付け装置
c.VACUNITE6 c.VACUNITE12
- リフロー炉
R&D、少量生産対応モデル
c.VACUNITE24
- リフロー炉
量産対応モデル
c.VACUNITE180 c.VACUNITE300
- 画像解析ソフト
ディープラーニング搭載 画像解析ソフトウェア
NEW! Image-Pro-AI for Materials
材料研究向けモデル
- 画像解析ソフト
ディープラーニング搭載 画像解析ソフトウェア
NEW! Image-Pro-AI for Life Science
生命科学向けモデル
- 画像解析ソフト
研究開発向け画像解析ソフトウェア
Image-Pro 11.1
2D・3D 画像解析ソフトウェア
- 加速器関連機器
マイクロビームライン/ビーム自動集束システム
マイクロビームライン
製品名:MBⅡ- AQUA
- 元素分析装置
ASI社 LA-LIBS装置
J200 LA-LIBS装置