製品特徴

①ハイエンドモデル　EBPG 5150 / 5200

ハイエンドモデルのEBPG5150/5200はRAITH社の卓越した技術を凝縮した装置となっております。周期的構造や正確形状等、お客様のご訴求に沿った形状描画を、高精度ステージ・電子銃及び主要関連備品等の制御を統合した専用ソフトウェアを介して、業界最速の描画を提供いたします。

✓ 高精度 且つ 高速なステージ安定構成
　高剛性なエアベアリングステージと超高精度フィードバック制御により、移動直後でも振動が瞬時に収束します。これにより、ステージ移動に伴う無駄なオーバーヘッドがほぼゼロになります。

✓ 広範囲な描画フィールド

　約1mmの大きなフィールドを採用しつつ、フィールドの端でも自動で焦点や非点・歪みをリアルタイム動的補正（Dynamic Correction）します。結果として「1回のステージ停止で描画できる面積」が圧倒的に広く、描画全体が高速化します。

✓ 最大 350 nA の「高電流密度」ビーム（FastHR技術）
　独自の大電流光学系と「FastHR技術」により、大電流（350nA）を流してもビーム径が太くならず、高い電流密度を維持できます。大面積や粗いパターンを「極太かつシャープなビーム」で一気に焼き付けることが可能です。

✓ 125MHz 高速パターンジェネレータ ＆ 2段階偏向（Coarse / Fine DAC）
　Corse / Fineの2段階変更によって、電気的な安定にかかる時間を極限までに削除。125MHzのスキャン速度でパルスジェネレータを搭載し、高精度且つ高スピードの完全両立を実現

✓　全自動キャリブレーションによる「準備・調整時間」の短縮
ビーム電流の切り替え、アライメント、フォーカス調整などが完全に自動化（Full Automation）されています。レンジの異なる描画（粗密パターン描画）を切り替える際も、一瞬で全自動校正されるため、合計描画時間が圧倒的に短縮されます

②EB描画×SEMのハイブリッド型　PIONEER/E–LINE/RAITH150

スタンダードモデルのPIONEER/E-LINE/RAITH 150は高解像度カラムを搭載し、電子線描画と高解像度観察機能を兼ね備えております。SEM観察機能が標準で付帯している他、オプションで検出器、ガスインジェクション、ナノプロービング等を追加可能な拡張性がある装置です。

✓ GeminiSEMカラムを搭載
　定評のあるGeminiSEMカラムを採用しており、低加速電圧化でも色収差を極小化した微小スポット径を維持いたします。インレンズ・リターディング方式によって、チャージアップしやすい材料や脆弱材料や薄膜等へのイメージング・描画に有効です。

✓ 膨大なCADデータの高速データハンドリング (Algorizmixx)

　メタレンズ等のギガバイトクラスの巨大ファイルや高密度アレイ構造でも、データ変換や割り当て処理によるタイムラグを最小限に抑え、合計描画時間を大幅に短縮いたします。

✓ 独自のスティッチングエラー技術

　・ Traxx 　　：固定ビーム/ ステージを連続駆動しながら長尺・曲線パスを一発露光
　・ Periodixx ：ビーム偏向＋ステージ連続移動により、幅方向に周期構造を連続露光

✓ 加工・評価まで可能な拡張性
　高分解能なIn-lens SEに加えて、AsBやEDX等の検出器も設置可能です。加えて、オプションでナノプロービング及びEB成膜等も追加できるため、加工・物性評価ツールとしてご利用いただけます。

＊アプリケーションノート等から詳細に本製品についてご説明できます。お気軽にお問い合わせください。