ブレイクスルーを起こす先端製品のご提案半導体・MEMS プロセス装置
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超高温バルクアニール炉
RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置
量産用 真空リフロー炉
RIBER社 真空装置 In-situ反りモニター
イオンミリング装置の事なら伯東へ
半導体物理解析：配線・絶縁膜の層剥離・除去
Agnitron社 中古再生MOCVD装置
Agnitron社 MOCVD装置(有機金属気相成長装置)
Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニタ
Agnitron社 MOCVD装置制御ソフトウエア
AMAT社 Endura®（中古再生/プロセス保証）
RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置
RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置
RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置
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解析波長が広い(DUV～NIR)分光エリプソ
多種多様な材料に対応した標準型クヌーセンセル
ヒ素、リン、腐食性材料用バルブドクラッカーセル
大容量・高安定性III族エフュージョンセル
窒化物向け高耐性エフュージョンセル
特殊用途に対応したMBEセル
多種多様なRFプラズマ源(プラズマソース)
高温、低温ガスインジェクター(ガスソース)
PVA TePla社 プラズマ処理装置
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R&D対応モデルの真空はんだ付け装置
R&D、少量生産対応モデル
量産対応モデル
科学・産業向け画像解析ソフトウェア
マイクロビームライン/ビーム自動集束システム
NEC社製ペレトロン加速器
ASI社 LA-LIBS装置