Imperium®MOCVD装置制御ソフトウエアの特徴、サービス

MOCVD(有機金属気相成長)装置とプロセスをコントロールするための最新のWindowsベースのSCADAパッケージを備えたMOCVD装置制御ソフトウエアです。最新の制御機能とデータロギング機能を有しており、他のソフトウエアにはないカスタマイズ性、操作性が優れています。Veeco, Thomas Swan, Aixtron社等のレガシーMOCVD装置の制御ソフト入れ替え、ソフトウエアアップグレードに最適です。

• 特徴
• 1    リアルタイム制御とモニタリング
• 2    手動または自動化されたプロセス制御ソフトウエア
• 3    標準的な装置のオペレーションに使用されるシステムルーチン設定
• 4    ユーザーが作成したレシピで自動プロセス制御
• 5    モニター計測フィードバック制御
• 6    リアルタイムデータ、履歴データのグラフィックプロット、分析が可能
• 7    SQLデータベースを使用
• 8    Veeco, Thomas Swan, Aixtron社等の様々なレガシーMOCVD装置の制御ソフトのImperiumソフトウエアへの入れ替え可能
• 9    あらゆるPLCベースのプロセスを制御
• 10  カスタマイズ機能により、ユーザーは簡単に新しいデバイスを追加し、デバイス制御パラメータを構成してシステムルーチン、レシピ、アラーム等を設定可能
• 11  多数のImperium®ソフトウエアへのソフト更新、ソフトウエアアップグレード実績有
• 12  12か月保証
• 13  リモートサポート、オンサイトサポート
• 14  リモートシステム通知(電子メール、SMS)可能
• 15  ルーチン設定の新規作成、変更可能
• 16  MO流量監視クローズドループフィードバック制御
• 17  Epiviewレシピのインポート可能
• 18  PLC/PCとの通信不良時にも対応する安全なソフトウエア
• 19  アナログ/デジタルPLC IOインターフェース及びDeviceNetに対応
• 20  オンサイトでの短期間でのソフト入れ替え、ソフトウエアアップグレード可能

MOCVD法(有機金属気相成長法)の原理

MOCVD法(有機金属気相成長法あるいはMOVPE法)は化合物半導体デバイス(Ⅲ-V属、Ⅱ-Ⅵ属、窒化物、酸化物等）を作製する成長方法の一つです。有機金属とは金属原子と炭素原子が結合された化合物です。有機金属は常温では液体または固体ですが、飽和蒸気圧が比較的高く、水素、窒素などのキャリアガスを用いれば、結晶成長に必要な量のエピ成長用原料をガスとして安定供給できます。熱力学的に不安定である為、加熱によって分解され、金属を分離する特徴を利用して、加熱した基板結晶表面に2種以上の有機金属化合物を同時に供給し、エピタキシャル成長します。常温で気体としての取り扱いが可能である為、大面積にわたり膜厚、組成均一性および膜厚制御性、急峻なヘテロ界面形成が可能です。高真空を必要としない為、大面積、生産性に優れるという特徴がある成膜方法です。又効率よく、均質な薄膜結晶を作成でき、単一原子層での制御も可能です。

製品メーカー案内

Agnitron Technology社（アメリカ）は、2008年に設立された中古リファブ、自社開発新品MOCVD装置（有機金属気相成長装置）、MOCVD装置制御ソフトウエア、MOCVD 装置用In-situモニターを製造・販売するサプライヤーです。Agnitron Technology社はお客様のニーズ一を詳細にお聞きし、ニーズに合致した個別装置を提案する事が可能なユニークなMOCVD装置メーカーです。現在、大学や公的研究機関、デバイスメーカー各社がAgnitron Technology社のMOCVD装置を運用しており、Ⅲ-N,Ⅲ-Ⅴ,As(砒素)/P(燐）, 酸化ガリウム(Ga2O3),酸化亜鉛(ZnO),遷移金属ジカルコゲナイド(TMD)、グラフェン、２D材料など様々な最先端分野の研究または生産ツールとして貢献しています。

日本国内では、伯東株式会社が同社製品の販売と保守サービスを提供しております。