超高温バルクアニール炉

c.CRYSCOO-HTA

RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置

量産用　真空リフロー炉

インライン型 真空リフロー炉

(ボイドレス/フラックスフリー)

RIBER社 真空装置 In-situ反りモニター

EZ-CURVE

真空装置 In-situ反りモニター

イオンミリング装置の事なら伯東へ

イオンビームミリング装置

10IBE ／20IBE-C／20IBE-J

半導体物理解析：配線・絶縁膜の層剥離・除去

Ion Beam Delayering装置

Infinity FA system

Agnitron社 中古再生MOCVD装置

中古再生MOCVD装置

MOCVD装置 (研究開発(R&D)/量産装置)

Agnitron社 MOCVD装置(有機金属気相成長装置)

Agilisシリーズ

MOCVD装置(研究開発(R&D)/量産)

Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニタ

AgniTemp

MOCVD装置 In-situ温度モニター

Agnitron社 MOCVD装置制御ソフトウエア

Imperium®

MOCVD装置制御ソフトウエア

AMAT社 Endura®（中古再生/プロセス保証）

Endura® リファブ装置

Endura®5500 / Endura®II

TRIBUS SYSTEM 社製 PVD システム

SURPASS P200 ®

高解像度 / 高スループット　　　　　　　　　　　　マスクレス露光装置

Picomaster / Picomaster XF シリーズ

業界最高レベルの解像度/スループット

RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置

Compact21シリーズ

研究開発用モデル

RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置

MBE412シリーズ

試作～小規模生産用モデル

RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置

MBE49シリーズ

量産用モデル

RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置

MBE6000

量産用モデル

解析波長が広い(DUV～NIR)分光エリプソ

分光エリプソメーター SENresearch4.0

SENresearch4.0 / SENTECH Instruments GmbH

多種多様な材料に対応した標準型クヌーセンセル

標準型クヌーセンセル

SFシリーズ、DFシリーズ、DPシリーズ、CLシリーズ

ヒ素、リン、腐食性材料用バルブドクラッカーセル

バルブドクラッカーセル

VACシリーズ、KPCシリーズ、VCORシリーズ

大容量・高安定性III族エフュージョンセル

インサートセル

ABIシリーズ

窒化物向け高耐性エフュージョンセル

マスターソース

MSシリーズ

特殊用途に対応したMBEセル

特殊用途MBEセル

HT,MHTシリーズ、HATシリーズ、カーボンセルシリーズ

多種多様なRFプラズマ源(プラズマソース)

RFプラズマ源

RFシリーズ、VRFシリーズ、RF-Hシリーズ

高温、低温ガスインジェクター(ガスソース)

ガスインジェクター

HTIシリーズ、LTIシリーズ、ガスモジュール

PVA TePla社　プラズマ処理装置

GIGA シリーズ(後工程)

バックエンドモデル

PVA TePla社　プラズマ処理装置

GIGA シリーズ(前工程)

ウエハープロセスモデル

R&D対応モデルの真空はんだ付け装置

c.VACUNITE6 c.VACUNITE12

R&D、少量生産対応モデル

c.VACUNITE24

量産対応モデル

c.VACUNITE180 c.VACUNITE300

マイクロビームライン/ビーム自動集束システム

マイクロビームライン

製品名：MBⅡ- AQUA

Group3社製 磁場測定器(テスラメーター)

磁場測定テスラメータ

NEC社製ペレトロン加速器

ペレトロン加速器

ASI社 LA-LIBS装置

J200 LA-LIBS装置