寸法計測・欠陥レビュー統合型SEM
RAITH（レイス）
次世代 Metrology SEM
CD-SEM, Defect Review SEM
Raith社は微細パターン形成やナノスケール構造作製に適した製品ラインナップを持っており、幅広い研究機関や産業界で利用されています。本装置は、ナノデバイスの評価に必要な寸法計測（CD-SEM）、欠陥検査、レビューの3機能を単一プラットフォームに集約した自動SEMシステムです。サーモシールドやレーザー干渉計ステージの採用により、1 nm未満の位置決め精度とNIST基準の測定精度を実現、さらに、AI駆動の欠陥検査やレシピベースの自動化ワークフローを搭載し、ユーザーの経験レベルに関わらず数千点のデータを安定して取得可能です。研究開発から量産へのスムーズな移行を支える、次世代の「Lab-to-Fab」ソリューションです。
SERIES LINEUP
シリーズラインナップ-
寸法計測・欠陥検査・画像取得SEM
VECTOR
フルウェーハサイズを全自動で測長・欠陥検出・観察するオールインワンシステムです。RAITH社電子描画装置EBPGシリーズとのシステム連携に対応しています。
製品特徴
Raith社 EB描画装置 EBPGシリーズとの連携
システム連携により、歩留まり・生産性を促進
・EB描画の設計の段階で、測定内容を定義したファイルを作成。Cjobソフトでファイルを読み込み、そのデータを使って EBPG装置で回路を描き、VECTOR で自動かつ大量に測定・評価 することが可能。
・描画パラメーター（パターン、ドーズ量など）と、CD-SEM測定データと即座に紐付け、寸法のばらつき（CDU）の要因が、露光、プロセス要因であるか分離して解析できる。
・自動計測のサンプリング最適化により、理想的なパラメータを迅速に特定し、高速測定を実現（約5時間で3,000イメージの撮像)
オールインワン・プロセスコントロール
VECTORは、Fabで求められる全てのSEMベースの計測を1台のシステムで提供
① Metrology（寸法・形状計測）
・フルウェーハサイズを全自動で測長・観察
・ウェーハ上のパターニング傾向観察や許容仕様の評価に有効
② SEM Review（欠陥レビュー）
・ウェハ全面のKLARFナビゲーション
・高コントラストな欠陥の再検出および・観察
③ SEM inspection（SEM検査）
・欠陥検出による重要箇所検査
・AIベースの自動欠陥検出・分類
フルウェーハレベルでのCD分布及び傾向観察
寸法・欠陥測定データをレビュー・可視化
APPLICATION
アプリケーション-
Typical LER 3σ = 4.7 nm
AI解析 Fenrir による自動欠陥検出 検出された異常は、LER のウェハマップの異常値と一致
- 全モデル
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Outlier #980/LER 3σ= 18.0 nm
AI解析 Fenrir による自動欠陥検出 検出された異常は、LER のウェハマップの異常値と一致
- 全モデル
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Outlier #816/LER 3σ= 6.3 nm
欠陥がない標準配線
- 全モデル
