製品特徴

①業界トップクラスの高解像度 

PICOMASTER シリーズはマスクレスレーザ描画装置市場において、トップクラスの最小線幅300nm、グレイスケール4096階調を誇ります。最小線幅 (Min feature size：200nm)での精密なパターン形成だけでなく、オプション対応で600nm / 900nm解像度の追加も可能で(自動的にサイズ切り替え)、お客様の設計・開発の柔軟性を大幅に向上させます。

◆主な仕様 PICOMASTER 200
・Feature size　 ：200nm
・Min Lin width  ：300nm
・Gray Scale　　：4096
・Substrate size ：Max 230 x 230 mm²
・Light source　：Gan Laser 405nm

*上記仕様は、200mm²の露光用のツールとなっております。
   100mm²、150mm²露光用のモデル、またオプションで375nm光源も選択できます。

②大面積 x 高スループットモデル

PICOMASTER XFシリーズは、GLVデバイスを用いたマルチビーム方式によって、高解像度で高スループットを実現いたします。
基板サイズはMax 1,400mm²(モデルによる)まで可能となっており、太陽光等の大型パネルサイズへの描画もできます。

◆主な仕様 PICOMASTER XF 200
・Feature size　 ：500nm
・Min Lin width ：600nm
・Gray Scale　　 ：256
・Substrate size ：Max 250 x 250 mm²
・Light source　 ：Gan Laser 405nm
・Max write speed：560mm²/min

*上記仕様は、200mm²の露光用のツールとなっております。
  他のサンプルサイズの仕様はお問い合わせください。

③廉価版モデル PicoMaster Start 100

Raith社では高解像度モデルシリーズ、高スループットモデルシリーズの他にお手頃価格価格のレーザ直接描画装置もラインナップにございます。
他のシリーズでは環境維持用にCDAが必要ですが、本エントリーモデルは不要で、ユーティリティは電源のみで設置可能です。加えて、卓上モデルになりますので、小スペースへの設置も可能となります。

◆主な仕様 PICOMASTER Start 100
・Min Lin width ：800nm
・Gray scale ：4096:
・Substrate size ：Max 125 x 125 mm2
・Light source　 ：Gan Laser 405nm

*オプションで1,500nm及び2,500umの解像度自動切換え機能、375nm光源の取替えも可能でございます。