製品特徴

①業界ハイレベルの高解像度 / グレイスケール

PICOMASTER シリーズはマスクレスレーザ描画装置市場において、ハイレベルの高解像度、グレイスケールを誇ります。最小解像度は300nm (Min feature size：200nm)ですが、オプション対応で他の解像度(600nm / 900nm)の追加(自動的にサイズ切り替え)可能でして、お客様の設計・開発業務の柔軟性の向上が見込まれます。

◆主な仕様 PICOMASTER 200
・Feature size　：200nm
・Min Lin width：300nm
・Gray Scale　　：4096
・Substrate size ：Max 230 x 230 mm2
・Light source　：Gan Laser 405nm

*上記仕様は、□200mmの露光用のツールとなっております。
□100、□150用のモデル、またオプション光源として375nmもございます。

②高スループット

PICOMASTER XFシリーズは、GLVを用いたマルチビーム方式によって、高解像度で高スループットを実現いたします。
基板サイズはMax □1,400mm(モデルによる)まで可能となっており、太陽光等の大型パネルサイズへの描画もできます。

◆主な仕様 PICOMASTER XF 200
・Feature size　 ：500nm
・Min Lin width ：600nm
・Gray Scale　　 ：256
・Substrate size ：Max 250 x 250 mm2
・Light source　 ：Gan Laser 405nm
・Max write speed：560mm2/min

*上記仕様は、□200mmの露光用のツールとなっております。
他のサンプルサイズの仕様はお問い合わせください。

③エントリーモデル PICOMASTER Start 100

Raith社では高解像度モデルシリーズ、高スループットモデルシリーズの他にお手頃価格価格のレーザ直接描画装置もラインナップにございます。
他のシリーズではスキャニング時にCDAが必要ですが、本エントリーモデルは不要の為、ユーティリティは電源のみとなっております。加えて、卓上モデルになりますので、小スペースへの設置も可能となります。

◆主な仕様 PICOMASTER Start 100
・Min Lin width ：800nm
・Gray scale ：4096:
・Substrate size ：Max 125 x 125 mm2
・Light source　 ：Gan Laser 405nm

*オプションで1,500nm及び2,500umの解像度自動切換え機能、375nm光源の取替えも可能でございます。